光刻机被称为“半导体工业皇冠上的明珠”，光刻主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，是芯片制造的核心环节。2023年3月荷兰政府发布光刻机新出口管制，ASML需要申请出口许可，才能装运最先进的浸没式DUV系统。为了避免在芯片产能爬坡时被外界的设备供应给“卡脖子”，国产光刻机正在加快突破。
一、光刻机的定义
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备，技术含量、价值含量极高。光刻机由光源、照明系统、物镜、工件台等部件组装而成，在芯片制作中，光刻机会投射光束，穿过印有图案的光掩膜版及光学镜片，将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上。通过蚀刻曝光或未受曝光的部分来形成沟槽，再进行沉积、蚀刻等工艺形成线路。
资料来源：中商产业研究院整理
二、光刻机行业发展政策
近年来，中国半导体设备行业受到各级政府的高度重视和国家产业政策的重点支持。国家陆续出台了多项政策，鼓励半导体设备行业发展与创新，《虚拟现实与行业应用融合发展行动计划（2022-2026年）》《深圳市培育发展半导体与集成电路产业集群行动计划（2022-2025年）》《“十四五”数字经济发展规划》等产业政策为半导体设备行业的发展提供了明确、广阔的市场前景，为企业提供了良好的生产经营环境。具体情况列示如下：
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三、光刻机行业发展现状
1.光刻机的市场占比
芯片制造是半导体产业链中最具技术壁垒的环节之一，涉及扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、抛光、金属化等多个工艺步骤。其中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右，耗费时间占比约为40%-50%，光刻工艺所需的光刻机是最贵的半导体设备，其市场占比约为24%，
数据来源：SEMI、中商产业研究院整理
2.光刻机市场规模
近年来，在消费电子需求相对低迷的情况下，电动汽车、风光储、人工智能等新需求成为半导体产业成长的新动能，全球光刻机市场规模平稳增长。根据SEMI公布的数据，2022年全球半导体设备市场规模为1076.5亿美元，其中光刻机市场占比约为24%，规模达到约258.4亿美元。中商产业研究院分析师预测，2023年全球光刻机市场规模将增至271.3亿美元。
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3.光刻机市场竞争格局
光刻机市场呈现寡头垄断格局，前三供应商（荷兰阿斯麦、日本佳能、日本尼康）占据绝大多数市场份额，其中，ASML市场份额占比82.1%，Canon市场份额占比10.2，Nikon市场份额占比7.7%。国内企业中，上海微电子是目前中国第一家也是唯一一家光刻机巨头，具备90nm及以下的芯片制造能力。根据公开数据，上海微电子光刻机出货量此前已占到国内市场份额超过80%。
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4.光刻机出货量
从出货情况来看，2022年，前三大ASML、Nikon、Canon的集成电路用光刻机出货达超过500台，达到551台，较2021年的478台增加73台，涨幅为15%。其中，ASML拥有绝对优势，2022年共计出货量345台；佳能紧随其后，出货量达到176台；尼康相对数量较少，仅出货30台。其中，最先进的EUV光刻机，目前全球只有ASML有能力进行生产和销售。
5.光刻机主要零部件供应商
光刻机由光源、照明系统、物镜、工件台等部件组装而成，生产制造的技术要求极高，相关零部件供应企业情况如下：
四、光刻机行业重点企业
1.ASML
阿斯麦（ASML），它是一家荷兰的高科技公司，专注于为全球半导体和纳米制造行业提供先进的微影技术和解决方案。该公司成立于1984年，总部位于荷兰费利克斯霍夫。ASML是世界顶级的光刻机制造商之一，专注于高端光刻机的设计与生产，提供包括光刻机、光刻模拟、光刻监测及配套公司服务等在内的全套光刻解决方案，其产品广泛应用于半导体、光电子、平板显示等行业中。
2.佳能
佳能，是日本的一家全球领先的生产影像与信息产品的综合集团，从1937年成立以来，经过多年不懈地努力，佳能已将自己的业务全球化并扩展到各个领域。佳能的产品系列共分布于三大领域：个人产品、办公设备和工业设备，主要产品包括照相机及镜头、数码相机、打印机、复印机、传真机、扫描仪、广播设备、医疗器材及半导体生产设备等。在光刻机方面，佳能的光刻机成像精度高，适用于制造高端的半导体产品和其他高精密的电子器件。
3.尼康
尼康（Nikon），是日本的一家著名相机制造商，成立于1917年，主营业务为光学产品的开发和销售。尼克康的光刻机在分辨率和成像质量方面具有显著优势，适用于制造高质量的半导体产品和高端电子器件，光刻机产品涵盖从半导体、混合集成电路（MIC）、FPD（平板显示器）到LED（发光二极管）等多个领域，成像精度很高。
4.上海微
上海微电子装备（集团）股份有限公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。目前，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。
五、光刻机行业发展前景
1.政策利好行业发展
我国光刻机产业起步较晚，光刻设备需要长期大量依赖进口，自主可控需求日益突出。同时，由于光刻机属于高精端产品，其产能有限。因此，从国家安全层面来讲，核心技术必须做到独立自主，相关政策也持续推出。我国对于光刻机行业较为重视。对于整个IC产业链企业的政策优待以及对于半导体设备行业的相关规划与推动。其主要表现在资金方面的补助和人才方面的培养，以及进出口，投融资方面的政策扶持。
2.半导体市场增长带动行业发展
全球半导体设备行业复苏,受益于下游晶圆巨大需求、服务器云计算和5G基础建设的发展,带动相关芯片的需求。伴随着成为世界电子产业核心，中国目前已经成为最大的半导体市场，并且继续保持最快的增速。光刻机作为芯片产业链上游的重要组成部分，受此影响得到大力推动。
3.国产代替进口需求推动行业发展
目前光刻机市场主要由国外三大企业所垄断，随着中国大陆代工厂的不断扩建，未来对于国产光刻机的需求不断提升，而当前国内与国外顶尖光刻机制程仍存在较大差距。但为应对国外技术出口管制风险，国产光刻机需求上涨，推动行业加速发展。